Регуляторы массового расхода для жидкостей
Используя технологии измерения и контроля расхода жидкости, оригинальные системы испарения и подачи LINTEC используются для полупроводников, линий по производству солнечных панелей и других высокотехнологичных отраслей нового поколения.
- Диапазон регулирования расхода: 5 ～ 100 % (полная шкала)
- Рабочий режим клапана: нормально открытый
- Точность: ±1.0%
- Рабочее дифференциальное давление: 50 ～ 300 кПа
- Воспроизводимость : ±0.5% F.S.
- Аналоговый выходной сигнал скорости потока: 0～ 5 Впст
- Точность: ±1.0%; ±2.5 %
- Рабочее дифференциальное давление: 50 ～ 300 кПа
- Диапазон регулирования расхода: 10 ～ 100 % (полная шкала)
- Рабочий режим клапана: нормально открытый
- Привод регулирующего клапана: пьезоэлектрический привод
- Рабочее дифференциальное давление: 50 ～ 300 кПа
- Диапазон регулирования расхода: 10 ～ 100 % (полная шкала)
- Рабочий режим клапана: нормально закрытый
- Привод регулирующего клапана: пьезоэлектрический привод
- Рабочее дифференциальное давление: 50 ～ 300 кПа
- Диапазон регулирования расхода: 10 ～ 100 % (полная шкала)
- Рабочий режим клапана: нормально закрытый
- Привод регулирующего клапана: соленоидный привод
- Рабочее дифференциальное давление: 50 ～ 300 кПа
- Диапазон регулирования расхода: 10-100 % (полной шкалы)
- Рабочий режим клапана: нормально закрытый
- Привод регулирующего клапана: соленоидный привод
- Рабочее дифференциальное давление: 50 ～ 300 кПа
- Диапазон регулирования расхода: 10-100 % (полной шкалы)
- Рабочий режим клапана: нормально закрытый
- Максимальная скорость испарения : 2 г/мин
- Рабочее дифференциальное давление: 250 ～ 300 кПа
- Диапазон регулирования расхода: 10-100 % (полной шкалы)
- Максимальная скорость испарения: 15 г/мин
- Смачиваемые материалы: кварцевое стекло
- Рабочее дифференциальное давление: 250 ～ 300 кПа
- Диапазон регулирования расхода: 10 ～ 100 % полной шкалы
- Рабочий режим клапана: нормально закрытый
- Точность: ±1.0%
- Рабочее дифференциальное давление: 50 ～ 300 кПа
Классификация методов испарения
Система испарения жидкости стала широко использоваться в полупроводниковой и других отраслях промышленности. Методы испарения обычно подразделяются на 3 типа: барботажный метод, метод нагрева и метод прямого испарения. Занимаясь производством продуктов, которые соответствуют всем заявленным методам, компания LINTEC стремится предоставить своим клиентам индивидуальные решения, которые соответствуют их потребностям.
Барботажный метод
Постоянное количество пара получают посредством регулирования скорости потока газа-носителя и температуры сосуда, содержащего жидкость. Фактически любая жидкость может быть испарена с использованием этого метода, но недостатки включают трудность в поддержании точного и повторяемого измерения потока.
Модели: серия LVC, серия HX, серия TCU и серия MC
Метод нагрева
Получение мощности из разности давлений между давлением паров жидких материалов-прекурсоров и давлением в камере для работы контроллеров для газов. Относительно высокая точность расхода может быть достигнута за счет использования контроллеров массового расхода.
Модели: серия SVC, серия TCU и серия MC
Метод прямого испарения
Этот метод использует регулятор массового расхода для жидкости и испарители, чтобы облегчить процесс испарения. Этот метод в настоящее время используется в производстве тонких пленок.
Модели: серия LVS, серия LM, серия VU, серия HX, серия VF, TCU Searineds, серия MC