Мини-ванна Ленгмюра-Блоджетт с двойным барьером и возможностью измерения давления ЛБ-пленок LBXD-MT
- Два барьера для сжатия
- Материал всех смачиваемых и контактных частей: тефлон высокой чистоты (PTFE)
- Объем ванны: 363 мл
- Размер зоны погружения: 105 мм (Д) x 40 мм (Ш) x 60 мм(В)
Производитель APEX
Описание
Характеристики
Материалы
Назначение
- Исследования в области катализа и поверхностно-активных веществ
- Формирование мономолекулярных ЛБ-пленок
- Cоздание моно- и многослойных амфифильных покрытий
- Измерение поверхностного давления и натяжение полученных пленок
- Модель LBXD-MT является уменьшенной копией ванны LBXD-NT
Области применения
- Наноэлектроника (нанолитография с разрешением 20-50 нм, изолирующие и проводящие ультратонкие пленки, туннельные диэлектрики, пассивирующие и защитные покрытия, элементная база молекулярной электроники, матрицы с полупроводниковыми наночастицами, матрицы для создания ультратонких слоев окислов металлов)
- Оптика (активные слои для записи информации оптическим способом и атомно-зондовым методом, фотохромные покрытия со встроенными светочувствительными белковыми молекулами, просветляющие покрытия, дифракционные решетки, интерференционные и поляризационные светофильтры, удвоители частот, барьерные слои в фотодиодах)
- Прикладная химия (химия поверхности и поведения частиц на поверхности, катализ, фильтрация и обратный осмос мембран, адгезия)
- Микромеханика (антифрикционные покрытия)
- Биотехнология (биосенсоры - электронные и электрохимические сенсоры на основе упорядоченных молекулярных структур со встроенными активными молекулами или молекулярными комплексами)
Возможные опции
 |
SFG спектрометр |
 |
УФ отвердители |
Технические характеристики
| Автоматизированное управление с ПК | + |
| Кол-во барьеров для сжатия | 2 шт. |
| Материал всех смачиваемых и контактных частей | тефлон высокой чистоты (PTFE) |
| Размеры рабочей области | 305 мм (Д) x 105 мм (Ш) x 4 (В) |
| Общие габаритные размеры ванны | 365 мм (Д) x 165 мм (Ш) x 70 мм (В) |
| Размер зоны погружения | 105 мм (Д) x 40 мм (Ш) x 60 мм (В) |
| Объем ванны | 363 мл |
| Разрешающая способность датчика, измеряющего вес пластинки Вильгельми | 0.01 мг |
| Диапазон поверхностного давления | До 80 мН/м |
| Чувствительность измерения поверхностного давления | Менее 0.005 мН/м |
| Диапазон поверхностного натяжения | ±0.1 мН/м |
| Тип сжатия | Симметричный |
| Скорость опускания, подъема подложки и сжимания барьеров | 1 – 250 мм/мин |
| Разрешение по скорости погружения и подъема подложки | 0.01 мм/мин |
| Неограниченное количество циклов нанесения | + |
| Простое и понятное ПО | Дружественный интерфейс, совместим с Windows XP, Windows 7, Windows 8, Windows 8.1 и Windows 10 |
| Неограниченное количество программ | + |
| Отображение данных процесса в режиме реального времени в программном обеспечении | + |
| Получение изотермы поверхностного давления | + |
| Получения графика зависимости поверхностного давления от времени | + |
| Программируемое нанесение на твердую подложку различных моно- и многослойных пленок | + |
| Модуль рубашки для изменения температуры ванны | + |
| Мониторинг образования доменов in-situ | + |
| Опция - фазово-контрастный инвертированный флуоресцентный микроскоп |
+ |
| Подвод мощности | Универсальный |
Похожее оборудованиеВ каталог
- Нанесение тонких пленок на стекле, металле, полупроводниках и других твердых материалах.
- Скорость вращения 100 – 10000 об/мин.
- Ускорение 40 - 5000 об/мин/сек
- Камера 8" - 10'" (в зависимости от модели).
- Вакуумный держатель подложек.
- Возможность продувки рабочей камеры инертным газом.
- Опции управления с ПК, обогрев, УФ осушители.
