Мини-ванна Ленгмюра-Блоджетт для создания моно молекулярных слоев LBXD-MT

Мини-ванна Ленгмюра-Блоджетт с двойным барьером и возможностью измерения давления ЛБ-пленок LBXD-MT

  • Два барьера для сжатия
  • Материал всех смачиваемых и контактных частей: тефлон высокой чистоты (PTFE)
  • Объем ванны: 363 мл
  • Размер зоны погружения: 105 мм (Д) x 40 мм (Ш) x 60 мм(В)

Производитель APEX

Назначение

  • Исследования в области катализа и поверхностно-активных веществ
  • Формирование мономолекулярных ЛБ-пленок
  • Cоздание моно- и многослойных амфифильных покрытий
  • Измерение поверхностного давления и натяжение полученных пленок
  • Модель LBXD-MT является уменьшенной копией ванны LBXD-NT

Области применения

  • Наноэлектроника (нанолитография с разрешением 20-50 нм, изолирующие и проводящие ультратонкие пленки, туннельные диэлектрики, пассивирующие и защитные покрытия, элементная база молекулярной электроники, матрицы с полупроводниковыми наночастицами, матрицы для создания ультратонких слоев окислов металлов)
  • Оптика (активные слои для записи информации оптическим способом и атомно-зондовым методом, фотохромные покрытия со встроенными светочувствительными белковыми молекулами, просветляющие покрытия, дифракционные решетки, интерференционные и поляризационные светофильтры, удвоители частот, барьерные слои в фотодиодах)
  • Прикладная химия (химия поверхности и поведения частиц на поверхности, катализ, фильтрация и обратный осмос мембран, адгезия)
  • Микромеханика (антифрикционные покрытия)
  • Биотехнология (биосенсоры - электронные и электрохимические сенсоры на основе упорядоченных молекулярных структур со встроенными активными молекулами или молекулярными комплексами)

получение мономолекулярного слоя монослой на поверхности

Возможные опции

SFG спектрометр
(Колебательный генератор с функцией суммирования частоты)

Изучение колебательных состояний молекул в монослоях.

УФ отвердители
Для осушения покрытий, полученных при помощи ванн Ленгмюра-Блоджетт

Технические характеристики

Автоматизированное управление с ПК +
Кол-во барьеров для сжатия 2 шт.
Материал всех смачиваемых и контактных частей тефлон высокой чистоты (PTFE)
Размеры рабочей области 305 мм (Д) x 105 мм (Ш) x 4 (В)
Общие габаритные размеры ванны 365 мм (Д) x 165 мм (Ш) x 70 мм (В)
Размер зоны погружения 105 мм (Д) x 40 мм (Ш) x 60 мм (В)
Объем ванны 363 мл
Разрешающая способность датчика, измеряющего вес пластинки Вильгельми 0.01 мг
Диапазон поверхностного давления До 80 мН/м
Чувствительность измерения поверхностного давления Менее 0.005 мН/м
Диапазон поверхностного натяжения ±0.1 мН/м
Тип сжатия Симметричный
Скорость опускания, подъема подложки и сжимания барьеров 1 – 250 мм/мин
Разрешение по скорости погружения и подъема подложки 0.01 мм/мин
Неограниченное количество циклов нанесения +
Простое и понятное ПО Дружественный интерфейс, совместим с Windows XP, Windows 7, Windows 8, Windows 8.1 и Windows 10
Неограниченное количество программ +
Отображение данных процесса в режиме реального времени в программном обеспечении +
Получение изотермы поверхностного давления +
Получения графика зависимости поверхностного давления от времени +
Программируемое нанесение на твердую подложку различных моно- и многослойных пленок +
Модуль рубашки для изменения температуры ванны +
Мониторинг образования доменов in-situ +
Опция - фазово-контрастный инвертированный
флуоресцентный микроскоп
+
Подвод мощности Универсальный
Похожее оборудованиеВ каталог
  • Два барьера для сжатия  
  • Материал всех смачиваемых и контактных частей: тефлон высокой чистоты (PTFE)
  • Объем ванны: 944 мл
  • Размер зоны погружения: 165 мм (Д) x 60 мм (Ш) x 60 мм(В)
  • Автоматизированная система управления на дисплее, так же возможно управление с ПК
  • Скорость спуска и подъема: 0.5-450 мм/мин
  • Кол-во программ: 15 шт. или неограниченное количество
  • Продувка инертным газом
  • Локальный контроль температуры
  • Автоматизированная система управления на дисплее
  • Максимальное количество сосудов: 8
  • Скорость спуска и подъема: 0.5-450 мм/мин
  • Кол-во программ: 20 шт
  • Нанесение тонких пленок на стекле, металле, полупроводниках и других твердых материалах.
  • Скорость вращения 100 – 10000 об/мин.
  • Ускорение 40 - 5000 об/мин/сек
  • Камера 8" - 10'" (в зависимости от модели).
  • Вакуумный держатель подложек.
  • Возможность продувки рабочей камеры инертным газом.
  • Опции управления с ПК, обогрев, УФ осушители.
  • Система дозирования: два канала с независимым контролем
  • Количество оборотов коллектора: 200 – 5500 об/мин
  • Скорость потока: 0.1 мкл/мин – 3 мл/мин
  • Количество УФ ламп 2 шт.
  • Длина волны излучения 365 нм
  • Энергопотребление 70 Вт на лампу
  • Диаметр поворотного столика (тефлон) 200 мм