Прибор для получения покрытия методом погружения

Установка для нанесения покрытий методом погружения (окунания) с одним сосудом Xdip-SV1

  • Автоматизированная система управления на дисплее, так же возможно управление с ПК
  • Скорость спуска и подъема: 0.5-450 мм/мин
  • Кол-во программ: 15 шт. или неограниченное количество
  • Продувка инертным газом
  • Локальный контроль температуры

Производитель APEX

Описание

Данная серия представлена недорогими настольными установками с одним сосудом, а так же неограниченным временем выдержки и повторением рабочих операций. Приборы могут быть использованы для решения следующих задач:

  • Нанесение покрытий на твердые подложки, мембраны и другие носители;
  • Нанесение покрытий золь-гель методом;
  • Создание самособирающихся структур;
  • Получение мультислоев.

Области применения

  • Полупроводники;
  • Медицина;
  • Оптика;
  • Прикладная химия;
  • Нанотехнологии.

Для закрепления покрытий на подложке можно дополнительно использовать УФ отвердители.

Модельный ряд приборов

Прибор для получения покрытия методом погружения

Модель Xdip-SV1
Базовая комплектация

Золь гель метод получения наноструктур

Модель Xdip-SV1 C
Комплектация с системой управления на компьютере

Прибор для получения покрытий

Модель Xdip-SV1 D
Комплектация с пыленепроницаемым блоком

Получение наночастиц химическим методом золь гель

Модель Xdip-SV1 H
Комплектация с блоком контроля температуры

Прибор для получения покрытия методом окунания

Модель Xdip-SV1 HC
Комплектация с блоком контроля температуры и системой управления на компьютере

Покрытия методом погружения - золь гель синтез

Модель Xdip-SV1 DH
Комплектация с
пыленепроницаемым блоком и
блоком контроля температуры

Создание покрытий на стекле для медицины

Модель Xdip-SV1 DC
Комплектация с системой управления на компьютере и пыленепроницаемым блоком

Получение монослоя методом самосборки Модель Xdip-SV1 DHC
Комплектация с системой управления на компьютере, пыленепроницаемым блоком и блоком контроля температуры

Технические характеристики

Характеристики Модели Xdip-SV1, Xdip-SV1 C, Xdip-SV1 D, Xdip-SV1 H,Xdip-SV1 HC, Xdip-SV1 DH, Xdip-SV1 DC & Xdip-SV1 DHC
Автоматизированная система управления На дисплее (для моделей Xdip-SV1 C, Xdip-SV1DC & Xdip-SV1 DHC возможно управление с ПК)
Скорость спуска и подъема 0.5-450 мм/мин
Высота спуска и подъема 150 мм
Максимальная высота нанесенного покрытия 100 мм
Кол-во циклов повторения рабочих операций Неограниченно
Время выдержки Неограниченно
Кол-во программ (с возможностью их редактирования) 15 шт. (для моделей Xdip-SV1 C, Xdip-SV1DC & Xdip-SV1 DHC неограниченное количество)
Ввод данных Через клавиатурное поле (через интерфейс ПК для моделей Xdip-SV1 C, Xdip-SV1DC & Xdip-SV1 DHC)
Режим проведения монтажа/демонтажа подложки на держателе +
Опция регулирования свободного промежутка +
Опция калибровки +
Продувка инертным газом N2 и другие инертные газы (доступно только в моделях Xdip-SV1 D, Xdip-SV1DC & Xdip-SV1 DHC)
Локальный контроль температуры До 160˚С (доступно только в моделях Xdip-SV1 H, Xdip-SV1DH & Xdip-SV1 DHC)
Похожее оборудованиеВ каталог
  • Нанесение тонких пленок на стекле, металле, полупроводниках и других твердых материалах.
  • Скорость вращения 100 – 10000 об/мин.
  • Ускорение 40 - 5000 об/мин/сек
  • Камера 8" - 10'" (в зависимости от модели).
  • Вакуумный держатель подложек.
  • Возможность продувки рабочей камеры инертным газом.
  • Опции управления с ПК, обогрев, УФ осушители.
  • Количество УФ ламп 2 шт.
  • Длина волны излучения 254 нм
  • Энергопотребление 8 Вт на лампу
  • Диаметр поворотного столика (тефлон) 200 мм
  • Количество УФ ламп 2 шт.
  • Длина волны излучения 365 нм
  • Энергопотребление 70 Вт на лампу
  • Диаметр поворотного столика (тефлон) 200 мм
  • Автоматизированная система управления на дисплее
  • Максимальное количество сосудов: 8
  • Скорость спуска и подъема: 0.5-450 мм/мин
  • Кол-во программ: 20 шт
  • Система дозирования: два канала с независимым контролем
  • Количество оборотов коллектора: 200 – 5500 об/мин
  • Скорость потока: 0.1 мкл/мин – 3 мл/мин
  • Два барьера для сжатия
  • Материал всех смачиваемых и контактных частей: тефлон высокой чистоты (PTFE)
  • Объем ванны: 363 мл
  • Размер зоны погружения: 105 мм (Д) x 40 мм (Ш) x 60 мм(В)
  • Эффективное и быстрое нанесение покрытий
  • Адаптируемая система для исследований, промышленности и медобслуживания
  • Компактная и передвижная система портативного типа
  • Роторный вакуум-насос для быстрого создания низкого вакуума
  • Охлаждаемая ловушка, установленная для защиты вакуумного насоса, улавливающая избыток парилена
  • Контроль температуры, установленный для контроля скорости испарения парилена