Спектральный поляриметр Elli-Ret
- Предназначена для анализа сильных, слабых и нулевых фазовых пленок
- Определяет оптические оси, параметры Rin и Rth, оси затухания поляризационных пленок
- Производительность: < 25 с на точку
- Обладает мощным программным и аппаратным обеспечением для проведения быстрых и точных измерений
Производитель Ellipso Technology
Описание
Система для измерения фазового сдвига тонких пленок
Спектральный поляриметр Elli-Ret предназначен для измерения фазового сдвига (Ret) сильных, слабых и нулевых пленок. С помощью Elli-Ret можно определять оптические оси, значения Rin и Rth замедления, оси пропускания и затухания поляризационных пленок.
Отличительные особенности
- Простота и высокая скорость измерений
- Высокая воспроизводимость анализа
- Бесконтактный неразрушающий метод анализа
Области применения
- Анализ замедляющих пленок для LCD
- Анализ оптических осей (передачи, медленная, быстрая)
- Анализ двулучепреломления (одноосное, двухосное)
- Направление и степень фотовыравнивающего слоя
Опции и аксессуары
- Расширенный рабочий спектральный диапазон: 400 – 800 нм
- Система почти нулевого замедления: сверхмалая анизотропия (Δ ≈ 0.005 нм)
Сервис анализа образцов
Компания Ellipso Technology предлагает аналитические услуги для анализа Ваших образцов
Компания Ellipso Technology предоставляет своим клиентам решение, включающее такие данные, как толщина, показатель преломления, коэффициент затухания и плотность тонкопленочных материалов, а также, другие возможные свойства, которые могут быть исследованы оптическим методом. Точность технологии и точность анализа Ellipso Technology пользуются доверием множества компаний и исследовательских институтов, а также учебных заведений.
Основываясь на знаниях и опыте, накопленных в ходе более чем 2000 запросов, полученных из различных областей за более чем десять лет, Ellipso Technology также предоставляет услуги по консультации клиентов, которые ищут решения вопросов, возникающих в процессе создания тонких пленок.
Небольшой список наших основных клиентов (локальных и зарубежных)
Компании | Samsung Electronics, Samsung SDI, Samsung Electro-Mechanics, Samsung Corning, Samsung Advanced Institute of Technology, KCC, LG Electronics, LG Chemical, LG Siltron, Saehan Media, Orion Electric, SKC, Taehan Sugar, DongWoo Fine-Chem, Kolon, KC Tech, Ness Display, Jusung Engineering |
Исследовательские центры | Корейский научно-исследовательский институт электротехнологии, Корейский институт машиностроения, Корейский научно-исследовательский институт стандартизации, Корейский научно-исследовательский институт электроники и телекоммуникаций, Корейский институт фундаментальных наук |
Образовательные учреждения | Kyung Hee University, Seoul National University, Yonsei University, POSTECH, KAIST, Korea University, Sogang University, Ulsan University, Sungkyunkwan University, Hanyang University, Konkuk University, GIST, Chungju National University, Pusan National University, Ajou University, Inha University |
Зарубежные компании |
HORIBA, Ltd. Miwa Opto, (Япония) Tohoku University (Япония) ASAHI GLASS (Япония) Ecole Polytechnique (Франция) ANWELL (Китай) INER (Institute of Nuclear Energy Research) (Тайвань) National Taiwan University (Тайвань) |
Стоимость услуги по измерению зависит от градации тестовых образцов для анализа:
- Единичный образец (подложка, пластина, стекло, т.п.)
- Несколько одинаковых образцов (например, 50 нм, 100 нм)
- Неизвестный образец с многослойной структурой
- PET пленки и новые материалы
В связи с тем, что для обработки запроса на точные измерения различных материалов должны работать самые опытные инженеры, номинальное количество образцов, которые мы можем обработать, составляет 5 образцов за один рабочий день. В некоторых случаях для измерения образца требуется всего 2-3 часа, так как на поверхности образцов после различных условий технологического процесса изготовления получаются самые разнообразные результаты.
Мы надеемся, что Вы понимаете данную ситуацию, а компания Ellipso Technology сделает все возможное, чтобы предоставить более точные и быстрые услуги в самый короткий срок.
Технические характеристики
Измеряемые параметры | Замедление (Rin, Rth), β-угол, оптические оси |
Диаметр измерительного пятна | 4 мм |
Скорость анализа | 25 сек/точка |
Воспроизводимость | < 0.005 нм (Rin) |
Воспроизводимость (3σ) | ± 0.3 нм на 10 измерений |
Система для анализа фазового сдвига | |
Источник света | Галогенная лампа |
Оптическая система | Коллимационная, с волоконным переносом излучения |
Рабочая длина волны | 550 нм |
Модуль поляризатора | Однокристальный поляризатор в высокоточном вращателе |
Модуль замедления | Высокоточный вращатель; моторизированный линейный столик; ахроматическая четвертьволновая полимерная пластинка |
Модуль анализатора | Однокристальный поляризатор в высокоточном вращателе с оптическим декодером |
Держатель образца | Вертикальное и горизонтальное крепление, независимое вращение; 2-осевой контроллер |
- Нанесение тонких пленок на стекле, металле, полупроводниках и других твердых материалах.
- Скорость вращения 100 – 10000 об/мин.
- Ускорение 40 - 5000 об/мин/сек
- Камера 8" - 10'" (в зависимости от модели).
- Вакуумный держатель подложек.
- Возможность продувки рабочей камеры инертным газом.
- Опции управления с ПК, обогрев, УФ осушители.