Атомно-силовой микроскоп Park ХЕ15
- Двумерный консольный сканер с диапазоном сканирования 100 мкм × 100 мкм
- Консольный Z-сканер высокого усилия
- Удобное крепление головки SLD по направляющей
- Множественный зажим
- Моторизированный предметный столик XY
Производитель Park Systems
Особенности
Park XE15 включает в себя множество уникальных возможностей, которые делают АСМ идеальным инструментом для лабораторий, работающих со множеством различных образцов, исследователей, выполняющих всевозможные эксперименты, инженеров, специализирующихся на выявлении дефектов в подложках. Разумная цена и надёжная конструкция делают его одним из самых лучших АСМ в индустрии для анализа крупных образцов.
- Двумерный консольный сканер с диапазоном сканирования 100 мкм × 100 мкм
- Консольный Z-сканер высокого усилия
- Удобное крепление головки SLD по направляющей
- Множественный зажим
- Моторизированный предметный столик XY
- Камера ПЗС высокого разрешения с цифровым увеличением
- Моторизированный Z и фокусный столики (автофокусирующая подача)
- Управление электроникой Park XE с панелью DSP в контроллере
Уникальная система сканирования MultiSampleTM повышает продуктивность исследований
Максимизация эффективности при работе только с одним АСМ, который позволяет проводить измерения с множеством образцов в один проход. Достаточно загрузить предметный столик образцами и запустить процесс сканирования. Этот режим также позволяет сканировать образцы в идентичных условиях окружающей среды, повышая точность и надежность полученных данных.
Большой размер образца расширяет возможности
В отличие от многих АСМ Park XE15 способен сканировать образцы размером до 200 мм×200 мм. Это делает АСМ отличным инструментом для исследователей, которым требуется сканировать крупные образцы или специалистов, осуществляющих анализ дефектов, если необходимо устанавливать силиконовые подложки на предметный столик.
Режимы адаптации под любые потребности
Park XE15 располагает наиболее содержательным набором режимов сканирования и способен обрабатывать образцы в широком диапазоне размеров. Это делает его уникальным инструментом для лабораторий, решающих индивидуальные задачи.
Преимущества
Наиболее удобные измерения образцов в режиме сканирования MultiScanTM
Точное латеральное сканирование XY в режиме «Crosstalk Elimination» (устранение помех)
- Два независимых консольных сканера XY и Z с обратной связью для сканирования поверхности образца с использованием зонда.
- Плоское и ортогональное сканирование XY до 100мкм×100мкм с малым остаточным искажением.
- Очень высокое разрешение в плоскости с возможностью обнаружения сигнала менее 2нм во всем диапазоне сканирования.
- Сканирование вдоль оси Z сканером высокого усилия до 25 мкм.
- Точное измерение высоты без необходимости в дополнительной программной обработке.
Технология «Park’s Crosstalk Elimination» устраняет вероятность искажений и позволяет выполнить плоское ортогональное сканирование XY при любом расположении, скорости и размере скана. В этом случае отсутствует искажение фона даже на очень плоских поверхностях, например, оптической плоскости, и при различных смещениях сканов. Это позволяет добиться очень точного измерения высоты профиля и получить точную картину нанометрического диапазона для решения самых сложных задач при выполнении исследований и инженерных проектов.
Длительный срок службы зонда, точность и отсутствие повреждений на поверхности образца в режиме True Non-ContactTM
- Скорость сервопривода Z оси в 10 раз выше по сравнению с пьезотрубкой других АСМ.
- Минимальный износ зонда, гарантия получения высококачественного изображения с высоким разрешением в течение длительного периода времени.
- Высокое разрешение по сравнению с другими АСМ.
- Низкая интерференция для получения более точных сканов.
Режим True Non-ContactTM | Полуконтактное изображение |
|
|
Режим True Non-ContactТМ сохраняет четкость показаний зонда
Наконечники (зонды) АСМ настолько хрупкие, что при их контакте с образцом происходит мгновенное снижение разрешения и качества изображения. При работе с мягкими и тонкими образцами зонд может повредить образец, это приведет к неточности измерений высоты профиля, повлечет рост затрат времени и денег. Уникальный режим True Non-ContactТМ АСМ существенно увеличивает разрешение и точность полученных данных при сохранении целостности самого образца.
Режимы работы
Имея в своем арсенале широкий набор режимов сканирования и модульную конструкцию, Park XE15 располагает мощностью и гибкостью, необходимой для выполнения любого проекта.
Стандартное изображение
- True Non-Contact AFM (реальный бесконтактный режим АСМ)
- Basic Contact AFM (основной контактный режим АСМ)
- Латеральная силовая микроскопия (LFM)
- Фазовое изображение
Химические свойства*
- Химическая силовая микроскопия с функциональным зондом
- Электрохимическая микроскопия (EC-STM и EC-AFM)
Температурные свойства*
Электрические свойства*
- Режим проводимости АСМ
- Спектроскопия I-V
- Сканирующая микроскопия с зондом Кельвина (SKPM/KPM)
- Сканирующая микроскопия (SKPM) высокого напряжения
- Сканирующая емкостная микроскопия (SCM)
- Сканирующая микроскопия сопротивления растекания (SSRM)
- Сканирующая туннельная микроскопия (STM)
- Картографирование фототоком по времени (Tr-PCM)
Оптические свойства*
Магнитные свойства*
Диэлектрические/пьезоэлектрические свойства*
- Электрическая силовая микроскопия (EFM)
- Динамическая контактная EFM (DC-EFM)
- Пьезоэлектрическая силовая микроскопия (PFM)
Механические свойства*
Силовое измерение*
* Опционально
Технологии Park AFM
Технические характеристики
Сканер | Латеральный сканер XY | Z сканер |
Консольный одномодульный XY-сканер с замкнутым контуром управления Сканирующий диапазон: 100 мкм × 100 мкм |
Направляющий силовой Z-сканер Сканирующий диапазон: 12мкм (дополнительно 25 мкм) |
|
Обзор | ||
Прямой осевой обзор поверхности образца и кантилевер В сборе с линзой объектива 10× (линза с 20-кратным увеличением предлагается дополнительно) Область обзора: 480 × 360 мкм ПЗС: 1 Мегапиксель |
||
Программа | XEP | XEI |
Контроль системы и программа получения данных Регулируемые параметры обратной связи в режиме реального времени Управление скриптами с помощью внешних программ (дополнительно) |
Программа для анализа данных АСМ (работает совместно с ОС Windows, Mac OS X, Linux) | |
Электроника | ||
Высокопроизводительный DSP: 600МГц, 4800 MIPS |
||
Опции/Режимы | Стандартное изображение | Электрические свойства* |
True Non-Contact AFM (реальный бесконтактный режим АСМ) Basic Contact AFM (основной контактный режим АСМ) Латеральная силовая микроскопия (LFM) Фазовое изображение Прерывистый (полуконтактный) режим АСМ |
Режим проводимости АСМ Спектроскопия I-V Сканирующая микроскопия с зондом Кельвина (SKPM/KPM) Сканирующая микроскопия (SKPM) высокого напряжения Сканирующая емкостная микроскопия (SCM) Сканирующая микроскопия сопротивления растекания (SSRM) Сканирующая туннельная микроскопия (STM) Картографирование фототоком по времени (Tr-PCM) |
|
Химические свойства* | Температурные свойства* | |
Химическая силовая микроскопия с функциональным зондом Электрохимическая микроскопия (EC-STM и EC-AFM) |
Сканирующая температурная микроскопия (SThM) | |
Оптические свойства* | Магнитные свойства* | |
Картографирование фототоком по времени (Tr-PCM) | Магнитная силовая микроскопия (MFM) | |
Диэлектрические/пьезоэлектрические свойства* | Механические свойства* | |
Электрическая силовая микроскопия (EFM) Динамическая контактная EFM (DC-EFM) Пьезоэлектрическая силовая микроскопия (PFM) с высоким напряжением |
Силовая модулирующая микроскопия (FMM) Наноидентификация Нанолитография Нанолитография с высоким напряжением Наноманипуляция |
|
Силовое измерение* | ||
Силовая спектроскопия F-D Объемное силовое изображение |
||
Дополнительные принадлежности | ||
Электрохимический элемент Универсальный жидкостный элемент с температурным управлением Предметные столики с температурным управлением Генератор магнитного поля |
||
Предметный столик | ||
Ход столика XY: 150 мм x 150 мм, моторизированный (150 мм x 150 мм – дополнительно) Ход столика вдоль оси Z: 27,5 мм Диапазон перемещения фокусировки: 20 мм, моторизированный Дополнительные кодирующие устройства для восстановления положения XY |
||
Крепление образца | ||
Размер образца: до 200 мм Толщина: до 20 мм |
||
Доступ внешнего сигнала | ||
20 встроенных портов ввода/вывода 5 TTL выводов: EOF, EOL, EOP, модуляция и отклонение АС |
* Опционально
Размеры в мм
- Скачать проспект на Атомно-силовой микроскоп Park XE15
- Исследование одномерных полупроводниковых структур ZnO с помощью атомно-силовых микроскопов серии XE
- Измерение контактной разности потенциалов поверхности методом SKPM
- Исследование различных образцов с помощью бесконтактного метода True Non-Contact на атомно-силовом микроскопе
- Анализ топографии структурированной сапфировой подложки для сине-зеленых LED диодов