Подписка на новые статьи


Нажимая кнопку «Подписаться», вы принимаете условия «Соглашения на обработку персональных данных».

Вебинар «Преимущества высокого вакуума – повышение точности определения характеристик двумерных полупроводников с помощью АСМ с электрическими режимами анализа»

31.08.2020

3 Сентября 2020 г. 12:00 – 13:30 (Москва)

ЗАРЕГИСТРИРОВАТЬСЯ

В связи с постоянно уменьшающимися размерами устройств в полупроводниковой промышленности спрос на функциональные материалы с низкой размерностью продолжает расти. С момента открытия графена в 2004 году [1] 2D-материалы вызвали интерес научных и промышленных исследований. Среди 2D-материалов для полупроводников особенно многообещающими являются дихалькогениды переходных металлов (TMD). Однако TMD часто демонстрируют морфологические особенности, такие как границы зерен, которые влияют на электрические свойства локально [2]. Следовательно, для определения характеристик TMD требуются методы с высоким пространственным разрешением и чувствительностью к электрическим свойствам, включая проводимость и поверхностный потенциал. Атомно-силовая микроскопия не только предлагает визуализацию топографии с локальным разрешением на уровне наномасштабов, но также определяет электрические свойства путем сканирования поверхности с помощью электропроводящего кантилевера.

В ходе данного вебинара на примере использования атомно-силового микроскопа NX-Hivac мы продемонстрируем, как высокий вакуум (10-5 торр) значительно улучшает чувствительность и разрешающую способность электрических режимов АСМ при анализе TMD. Удаление поверхностного слоя воды приводит к улучшению электрического контакта между кантилевером и образцом. В то же время вакуумная среда предотвращает неблагоприятный эффект легирования материала TMD, который эффективно снижает проводимость материала. Таким образом, локальные электрические характеристики TMD материалов могут быть выведены на новый уровень.

Вебинар будет представлен Ilka Hermes – старшим научным сотрудником, Park Systems Europe, Мангейм, Германия.

  1. Novoselov, K. S. et al. Electric Field Effect in Atomically Thin Carbon Films. Science (80-. ). 306, 666 LP – 669 (2004).
  2. Ludwig, J. et al. Effects of buried grain boundaries in multilayer MoS2. Nanotechnology 30, 285705 (2019).