Непрерывные DPSS УФ лазеры серии FQCW266

Лазеры данной серии имеют выходную мощность в диапазоне от 10 мВт до 500 мВт и доступны на трех разных платформах. В зависимости от потребностей применения запатентованный лазерный дизайн позволяет выбрать восемь уровней мощности. Лазеры FQCW266 всегда поставляется с блоком питания, блоком управления и программным обеспечением.

• Простота работы и включения: «plug&play»
• Прочный и герметичный корпус
• Превосходное качество излучения
• Контроль выходной мощности через обратную связь
• Низкий уровень шума
• Большая длина когерентности

• Рамановская спектроскопия: УФ рамановская спектроскопия с длинами волн возбуждения ниже 270 нм является очень многообещающим методом получения спектров комбинационного рассеяния без флуоресценции, поскольку флуоресценцию обычно можно обнаружить только при длинах волн более 300 нм.
• Флуоресцентные измерения (LIF, FLIM): Лазерно-индуцированная флуоресценция (LIF) – это спектроскопический метод, при котором атом или молекула возбуждаются до более высокого энергетического уровня путем поглощения лазерных фотонов с их последующим спонтанным излучением. LIF используется для изучения структуры молекул, обнаружения селективных образцов и измерений при визуализации потока.
• Визуализация времени жизни флуоресценции (FLIM) – это метод визуализации для получения изображения, основанный на различиях в экспоненциальной скорости затухания флуоресценции от флуоресцентного образца. Он может быть использован в качестве метода визуализации в конфокальной микроскопии, двухфотонной микроскопии возбуждения и многофотонной томографии. Время жизни флюорофорного сигнала, а не его интенсивность, используется для создания изображения в FLIM. Преимущество этого состоит в минимизации эффекта рассеяния фотонов в толстых слоях образца.
• Фотолюминесценция: Фотолюминесценция (PL) – это излучение света от любой формы вещества после поглощения фотонов. Это одна из многих форм свечения. После возбуждения обычно происходят различные релаксационные процессы, при которых переизлучаются другие фотоны. Временные интервалы между поглощением и излучением могут варьироваться: от короткого фемтосекундного режима для излучения с плазмой свободных носителей в неорганических полупроводниках до миллисекунд для процессов фосфоресценции в молекулярных системах; а при особых обстоятельствах задержка излучения даже может составлять от минут до часов. Наблюдение PL при определенной энергии можно рассматривать как указание на то, что электрон населяет возбужденное состояние, связанное с этой энергией перехода, и служит источником PL во многих системах, таких как полупроводники.
• Литография: Фотолитография, также известная как УФ-литография (UVL), представляет собой процесс, используемый в микрообработке для нанесения рисунка на части тонкой пленки или объем подложки. Процесс использует фотоны для переноса геометрического рисунка из фотомаски в светочувствительный химический фоторезист на подложке. Например, сложные интегральные схемы или CMOS-пластины проходят несколько фотолитографических циклов. Другие методы, такие как лазерная интерференционная литография (LIL), наноимпринт-литография (NIL) и стереолитография (SLA), представляют собой методы формирования регулярных массивов тонких структур без использования сложных оптических фотомасок и трехмерного прототипирования для медицинских и биотехнологических приложений.
• Рефлектометрия: Рефлектометры широко используются в метрологии для анализа шероховатости полированных и шлифованных поверхностей в полупроводниковой и точной механической промышленности. Они обеспечивают быструю и бесконтактную альтернативу традиционным стилусным методам для оценки топографии. Рефлектометры совместимы с вакуумной средой, не чувствительны к вибрации и могут быть легко интегрированы в процессы с обработкой поверхности и другими метрологическими инструментами.