Вакуумная установка магнетронного напыления с предварительной ионно-лучевой очисткой Atis 500

Вакуумная установка Atis 500 предназначена для нанесения металлических покрытий методом магнетронного распыления, с предварительной ионно-лучевой очисткой, на подложки размером 60х48 мм.

Вакуумная установка циклического действия с цилиндрической камерой диаметром 500 мм и высотой 330 мм. Доступ в камеру осуществляется через откидывающуюся верхнюю крышку.

Камера оснащена криогенным насосом, обеспечивающим максимально быстрое вакуумирование и быструю откачку паров воды. Форвакуумная откачка осуществляется безмасленным механическим насосом.

В камере располагается держатель подложек на 24 позиции, одна из которых предназначена для отпыла магнетронов. Размеры держателя позволяют загружать для обработки до 23 подложек размером 60х48 мм для двустороннего напыления.

Для очистки подложек перед покрытием в целях улучшения адгезии установлены два ионных источника очистки линейного типа апертурой 140 мм.

Для нанесения подслоя и основного металлического слоя, в камере устанавливаются 4 магнетрона постоянного тока, с диаметром мишени 150 мм

Подложки обрабатываются пошагово. Последовательность обработки задается оператором (например, сначала на все подложки подслой, потом основной слой, либо для каждой подложки подслой и сразу нанесение основного слоя).

Установка снабжается замкнутой системой водяного охлаждения (в обязанность заказчика входит только обеспечение дистиллированной водой).

ПО установки позволяет вести техпроцесс как вручную, путем выдачи команд оператором, так и в автоматическом режиме по введенному рецепту.

Предлагаемое оборудование обеспечивает производительность 120 подложек с двусторонним напылением в смену, например, для структуры Сr-Cu-Cr.