Установка вакуумного напыления для нанесения высокостабильных прецизионных покрытий Аспира 150
- До 6-ти материалов мишеней
- Комбинирование ионно-лучевого и магнетронного распыления
- Ионно-лучевая очистка
- Шлюзовая загрузка
- Встроенный оптический контроль по детали
- Зона напыления 150 мм
Производитель Изовак
Особенности
Установка вакуумного напыления Аспира 150 предназначена для нанесения высокостабильных прецизионных покрытий лазерного и специального назначения (узкополосные фильтры, высокоотражающие зеркала, многоволновые спектроделители, токопроводящие покрытия и т.д.).
Современные требования к прецизионным оптическим покрытиям требуют применения не только особых технологических решений, но зачастую и комбинации различных технологий напыления совместно со средствами спектрального контроля. Компанией Изовак в тесном взаимодействии с ведущими разработчиками оптических покрытий в России разработана новейшая вакуумная установка Аспира-150 для решения оптических задач высокой сложности.
- Компактная установка для R&D и мелкосерийного производства
- Применение ионно-лучевого и магнетронного распыления позволяет проводить реактивные и нереактивные процессы в любой последовательности
- Предварительная подготовка подложки технологией ионной очистки обеспечивает высокую степень адгезии
- Шесть позиций мишеней обеспечивают получение покрытий с любым набором слоев
- Встроенный высокоточный оптический контроль по детали позволяет осуществлять измерение характеристик в различных диапазонах
- Применение турбомолекулярных или криогенных насосов, а также минимизация пар трения в вакуумной камере обеспечивают наилучшие условия для получения покрытий с низким уровнем дефектности
- Зона напыления 150 мм достаточна для получения большинства прецизионных покрытий
- Уникальная конструкция подложкодержателя обеспечивает стабильное качество прецизионных покрытий
- Шлюзовая загрузка обеспечивает быстрый старт процесса
Возможности вакуумной установки «Аспира» хорошо демонстрируются при изготовлении изделий, представляющих собой четыре прецизионных интерференционных фильтра, совмещенных на одной подложке. Эти изделия используются в качестве входного окна CCD матрицы.
Области применения
- Лазерная оптика
- Спецтехника
- Научные приборы
- Приборы медицинского назначения
- Приборы космического применения
Технические характеристики
| Производительность / загрузка | Подложкодержатель Ø150 мм |
| Откачные средства | - Турбомолекулярный насос (2200 л/сек); - Сухой безмасляный насос (500 м3/час) |
| Предельный вакуум | 2х10-4 Па |
| Технологические устройства | - Ионно-лучевой источник распыления кольцевого типа на основе ускорителя с анодным слоем, с шестипозиционным мишенным узлом и термокомпенсатором ионного заряда; - Кольцевой магнетрон (3 шт) на постоянном токе (установлен стационарно на механизме смены мишеней) |
| Неравномерность покрытий | +/- 5% - для Ø 150 мм; +/- 2% - для Ø 120 мм; +/- 0.7% - для Ø 90 мм |
| Нагрев | ИК, ТЭН |
| Контроль покрытий | - Одноволновой контроль: 380-1100 нм, 380-1700 нм, 380-2600 нм - Спектральный контроль): 380-740 нм, 380-1100 нм, 1000-1700 нм, 380-1700 нм - Возможен кварцевый контроль |
| Требования к ресурсам | |
| Вода | Дистиллированная |
| Сжатый воздух | Осушенный, 6 - 8 бар |
| Электроэнергия | Напряжение - 380/220 В ± 10%, частота - 50 Гц ± 2% |
| Аргон | Давление - 0,1 ± 0,01 Па, Качество - по ГОСТ 5583-78, чистота - 99,7%, Расход - не более 0,2 л/мин |
| Занимаемая площадь | 2000 х 2600 х 2900 мм (L x W х H). |
| Масса, не более | 2000 кг |