Ионно-лучевое напыление. Установки вакуумного напыления
Отличительными достоинствами технологии является получение покрытий без эффекта дрейфа во времени при воздействии атмосферы и различных климатических условий, что является одним из важнейших требований к современным оптическим и функциональным покрытиям.
- Нанесение прецизионных оптических покрытий для лазерного применения
- Подложкодержатель Ø320 мм
- Равномерность покрытий ±0.5%
- Диапазон оптического контроля 350-1050 нм
- Разрешающая способность 1 нм
- До 6-ти материалов мишеней
- Комбинирование ионно-лучевого и магнетронного распыления
- Ионно-лучевая очистка
- Шлюзовая загрузка
- Встроенный оптический контроль по детали
- Зона напыления 150 мм
- Макс. размер зоны нанесения Ø200 мм
- Макс. высота подложки до 30 мм
- Неравномерность осаждения материала вплоть до 0.1%
- Оптический контроль «на пропускание»
- Шлюзовая загрузка
- Полная автоматизация
- Нанесение покрытий на германиевые и кремниевые детали
- Размер обрабатываемой подложки 370x420 мм
- Оптический контроль толщины покрытия
- 2 вакуумных камеры
- Шлюзовая загрузка
- Высоковакуумный затвор между камер
- Шлюзовая камера с системой вращения
- «Сухой» механический насос
- Откачка камер в автоматическом режиме
- Нанесение герметизирующих слоев на основе Si3N4 и SiO2
- Нанесение прозрачных проводящих покрытий
- 4-х позиционный узел сменных мишеней
- Шлюзовая камера с высоковакуумным роботом-загрузчиком
- Размер подложек 200x200 мм и 370x470 мм
Технология ионно-лучевого распыления заключается в бомбардировке мишени заданного состава пучком ионов с энергией до 5000 эВ с последующим осаждением распыленного материала на подложку. При этом стехиометрия формируемого покрытия идентична мишени.
Эта современная технология предназначена для нанесения прецизионных нанослойных покрытий с высокой плотностью и низкой шероховатостью. Пленки, получаемые методом ионно-лучевого распыления, имеют абсолютную величину шероховатости Rpv = 4,0 nm со среднеквадратичным отклонением Rms = 0,19 nm.
Отличительными достоинствами технологии является получение покрытий без эффекта дрейфа во времени при воздействии атмосферы и различных климатических условий, что является одним из важнейших требований к современным оптическим и функциональным покрытиям.
Дополнительными преимуществами технологии ионно-лучевого распыления являются возможность проведения реактивных и нереактивных процессов в одной камере без переналадки (например, из мишени Si можно получать покрытия Si, SiO2, Si3N4), возможность нанесения покрытий на термочувствительные подложки (пластики и т.д.), так как процесс нанесения характеризуется низкими температурами до 900 °С. А также перенос нанокомпозитных материалов мишени на подложку без изменения их свойств.
Компанией “Изовак" разработаны ионные источники серии IBSS с различными конфигурациями ионного пучка, позволяющие проводить ионно-лучевое распыление мишеней как кольцевой, так и линейной геометрии, а также осуществлять косое напыление.